微电子学院前沿技术分享系列讲座第一讲于S3‑417教室顺利举办。本次活动特邀学院2015届校友、芯恩（青岛）集成电路有限公司光刻部旋涂显影设备课课长、主任工程师张文磊返校作专题分享，讲座主题为“涂胶显影设备及光刻工艺”。微电子学院全体专任教师及学生代表到场参与本次讲座。

讲座开篇，张文磊以光刻机为切入点，系统梳理光刻工艺技术演进路径：从436纳米贴近式曝光，发展至193纳米浸没式曝光，再迭代到13.5纳米极紫外光刻。他指出，当前实现装备与材料自主可控，是我国集成电路行业亟待破解的重要命题。

围绕光刻工艺主线，张文磊重点阐释涂胶显影设备的硬件架构与工艺原理，介绍国内半导体装备与材料领域国产化推进现状。他介绍，长期以来涂胶显影设备、光刻胶市场主要由日本企业占据主导，过滤器等核心零部件也曾被境外厂商垄断。近年来，国产设备与材料陆续进入产线验证阶段，应用规模持续扩大。他勉励在场师生，集成电路产业供应链庞大复杂，各类设备与零部件都离不开各产业主体协同支撑，产业链各环节都为青年提供了施展才干的广阔空间。

结合个人职业成长历程，张文磊分享了从校园走向产业一线的奋斗经历。入职初期，他从倒班一线岗位做起，为吃透设备核心技术，珍惜各类学习机会，反复钻研实操技能，秉持“真正掌握在自己手中的本领才属于自己”的理念。他先后参与并主导企业涂胶显影设备安装调试工作，从线路布设、附属设备调试等基础工作做起，逐步成长为光刻部旋涂显影设备课课长。

他寄语学弟学妹，切勿把在校学习当作被动完成的任务，要将专业学习筑牢为未来职业立身的根基；切忌纵容思想上的惰性，应当把主要精力投入技术钻研、问题研判与职业方向规划。他鼓励同学们找准自身职业定位，主动下沉产业一线，在真实岗位实践中锤炼技术本领，拓宽个人职业发展空间。

讲座结束后，学院教师与张文磊就专业课程设置、实训条件建设、学生岗位能力培养等议题开展座谈交流。与会教师认为，将产业前沿技术融入教研工作，有利于教师及时把握行业技术动态，校准教学内容与岗位能力需求的匹配关系，为优化课程体系、完善实践教学提供重要参考。

本场活动是微电子技术专业群前沿技术分享系列讲座的首场活动。讲座将产业真实工艺、实体装备与现实技术课题引入校园课堂，一方面帮助同学们直观把握集成电路产业技术脉络与发展前景；另一方面也为专任教师更新课程内容、开发实训项目、积累教学案例提供一手产业素材。后续学院将充分挖掘校友资源与企业技术资源，邀请产业专家、技术骨干进校园开展技术分享。(图文：黄玮,复审：徐敏,终审：叶露林)